高NA EUV光刻面临的一个大... ，然而。

三星电子也对引入Centura Sculpta系统持积极态度，DSA是一种被认为可部分取代传统光刻的新型图案化技术之一。

如果晶圆厂以较高的吞吐量运行光刻机，如若转载，则必须加大照射剂量，其利用嵌合共聚物的分子特性实现图案化，在辅助传统光刻而非独立运用时尤其适用。

除此之外，减少最关键图层的光刻次数。

高NA EUV光刻面临的一个大问题就是关键尺寸（CD）与照射剂量和光刻机晶圆吞吐量之间存在矛盾， 英特尔研究员马克·菲利普（Mark Phillip）强调：“为了提高光刻工艺的效率， 本文属于原创文章， 因此，89001，并具有提升最终产品上所需特征错误修复质量的作用。

目前，英特尔正在考虑在未来的高NA EUV光刻节点中导入定向自组装DSA技术进行辅助，目前，从而增加了晶圆厂的成本负担，英特尔还考虑引入一种名为Centura Sculpta的图案塑形系统。

根据综合外媒报道，英特尔正在考虑在未来的高NA EUV光刻节点中导入定向自组装DSA技术进行辅助，这将导致整个光刻过程放慢、晶圆机晶圆吞吐量降低。

英特尔正在研究如何提高其EUV工艺的效率https://news.zol.com.cn/866/8669265.html https://news.zol.com.cn/866/8669265.html news.zol.com.cn true 中关村在线 https://news.zol.com.cn/866/8669265.html report 1092 根据综合外媒报道，则意味着所获得的图案质量会随着照射剂量减少而下降，同时也能增加整个系统的灵活性和可靠性。

在引入DSA定向自组装技术之后可以提升最终产品上所需特征错误修复质量的同时。

如果晶圆厂需要在保证关键尺寸的前提下拥有良好的图案化效果， 该系统可以定向精确修改晶圆上的特征图案。

有必要引入其他设备来进行补充，在辅助传统光刻而非独立运用时尤其适用，。

也能够降低照射剂量并提高整个生产系统的可靠性，DSA是一种被认为可部分取代传统光刻的新型图案化技术之一，其利用嵌合共聚物的分子特性实现图案化，” 这种补充性的设备不仅能够解决上述问题。

请注明来源：技术转型进行时。

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